【定 義】 光投影によって転写するためのパターンが描かれた、部分的に透明な膜もしくはガラス板。
【解 説】 ＩＣの製造では、最終的な回路パターンの数十倍から百倍近い大きさの原図をつくり、これをフォトマスクとしてフィルムやガラスに縮小する。 この原版をそのままウエハの露光に使うか、あるいは生産用に原版と同じパターンをもつ加工用版をつくる。 原版の材料は、露光に用いる光線の波長により選ぶ。
【参考資料】 (4)
【関連用語】 フォトリソグラフィ､ フォトレジスト