【定　義】　フォトリソグラフィにおいて用いる感光剤。

【解　説】　フォトレジストは感光性機能分子を含む高分子化合物からなり、水溶性と、溶剤性がある。 通常、試料にレジストの塗布→プリベーク→露光→現像→ポストベークのプロセスをへてパターンとなる。 パターン露光された部分が現像でなくなるポジレジストと露光部分が残るネガレジストがあり、また、サブμｍの微細パターン用に、極短波長の電子線やＸ線に感光する各種のレジストもある。

【参考資料】 (4)

【関連用語】 フォトマスク