【定　義】　電子ビームを利用して高分解能の微細パターンを基板に形成する技術。

【解　説】　パターン分解能は使用する電磁波の波長に依存し、原理的にはその波長以下は得られないため、電子ビームを利用することで分解能を高めた技術である。 マスク製作用のＣＡＤとリンクさせることで、マスクパターンなしのより柔軟なリソグラフィ技術が可能となる。 ただし、パターンどうりに電子線をラスタあるいはベクタ走査しなくてはならないため、一括露光と比較して露光時間がかかるという欠点がある。

【参考資料】 (7)

【関連用語】 フォトリソグラフィ､ 電子ビーム加工