【定　義】　蒸発粒子の一部をプラズマ化し、イオンや励起粒子に変化させ、電界により運動エネルギーを付加して基板に蒸着する技術。

【解　説】　真空蒸着とプラズマ応用の複合技術であり、通常の真空蒸着において基板に飛来する粒子は中性粒子が大半であるのに対し、本法においてはイオン、励起粒子、ラジカル等内部エネルギーと運動エネルギーをもった粒子であるため、成膜面の構造や物性が真空蒸着に比べて緻密なものとなる。 また、付着加工率もよく、成膜面の性質も良いので、電気めっきの代わりとして、特に非導電体への膜形成法として広く用いられている。

【参考資料】 (4)(9)

【関連用語】 蒸着