【定　義】　反応性ガスによるエッチング作用とイオンのスパッタ作用を複合させた加工法。

【解　説】　反応性イオンエッチングでは、化学的な反応作用と、プラズマで発生したイオンやラジカルが加工対象に衝突（スパッタ）する作用との両方により、マスクから垂直方向に選択的に進む。 異方性エッチングが結晶方位に対する異方性を示すのに対し、これはイオンの流れの方向に対する選択性を示す。 湿式のエッチングに見られるようなアンダーカット（マスクの下に回り込んだ腐食）を起こしにくい。

【参考資料】 (1)(3)(4)(6)(7)

【関連用語】 アスペクト比