【定　義】　Ｘ線を利用して微細パターンを基板に転写する技術。

【解　説】　リソグラフィ技術では、当初可視光を用いていたが、パターンの集積度が高まるにつれ、より波長の短いエキシマレーザや紫外線が用いられるようになってきた。 また、一括露光は困難であるが、電子線やイオンビームを用いることもある。 この中で、Ｘ線は、エキシマレーザよりもさらに波長が短く集積度が高まると考えられるが、Ｘ線に対する高効率、高精度なレンズの製作が難しいため、その光学系には技術的課題が多い。

【参考資料】 (4)

【関連用語】 フォトリソグラフィ