犠牲層エッチング【ぎせいそうえっちんぐ：sacrificial etching】

【定　義】　二つの層の間に挟まれた異なる材料の中間層を選択的にエッチング除去するマイクロ加工プロセス。

【解　説】　通常，中間層とそれを挟んでいる二つの層の間での，エッチングの選択性は高い。犠牲層の目的は，挟んでいる層の片側又は両側を機械的に分離することにある。一般に，酸化シリコンが犠牲層として用いられる。

【参考資料】

【関連用語】