【定　義】　蒸着の一種で、化学反応を利用した方法。

【解　説】　加熱した固体を揮発性物質（ハロゲン化物や有機化合物）の蒸気雰囲気に置き、高温不均質反応（分解、還元、置換）によって蒸気（気相）内の物質を固体表面に析出させる技術。 シリコンプロセスには欠かせない技術。析出層の厚みを制御する技術がないため、蒸気濃度、圧力、温度等の条件を試行錯誤的に決定する必要がある。 単結晶薄膜の作製には基板結晶軸に沿った結晶成長が起こるエピタキシャル成長法が多く用いられる。

【参考資料】 (1)(4)

【関連用語】