【定　義】　主に物理蒸着を用いた薄膜の製造プロセス。

【解　説】　PVDプロセスは，真空蒸着，不活性ガス若しくは活性ガス雰囲気中における単一又は複数ターゲットを用いたスパッタ成膜によって，主に薄膜を構成する。例として，RFマグネトロンスパッタリング，イオンビームスパッタリング，分子線エピタキシ，レーザアブレイションなどがある。PVDは，physical vapour depositionの略語（IEC 60050-815参照）。

【参考資料】

【関連用語】