【定　義】　基板の結晶構造に合わせて単結晶膜を成長させる技術。

【解　説】　基板の結晶方位に合わせて成膜されるため、付着性はもとより電気的特性が安定した膜が得られる。 エピタキシーは成膜物質の形態により固相、液相、気相の３つに分けられるが、最初に液相による方法が実用化された。 その後、超高真空技術を利用し、膜の厚さを１原子層ごとに制御できる気相成長の１種である分子線エピタキシー（ＭＢＥ）技術が開発され、超格子などが製作されている。

【参考資料】 (22)

【関連用語】